殘余應(yīng)力測量

簡要描述：該系統(tǒng)利用PEM調(diào)制光束的偏振狀態(tài)、先進(jìn)探測和解調(diào)電子來測量光學(xué)如何改變偏振狀態(tài)。這就導(dǎo)致了一個(gè)偏振狀態(tài)相對(duì)于另一個(gè)偏振狀態(tài)的光延遲測量結(jié)果是90°。利用這些數(shù)據(jù)可以對(duì)雙折射、快速軸向和理論殘余應(yīng)力測量進(jìn)行評(píng)估。在平板透鏡和己完成透鏡的研究和生產(chǎn)中， HindsInstruments和Exicor斜入射角技術(shù)被用于評(píng)估光學(xué)雙折射

產(chǎn)品型號(hào)：OIA
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2022-09-27
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利用光彈調(diào)制器技術(shù)，Hinds 公司的應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)(殘余應(yīng)力測量)可以在深紫外（193nm）波段進(jìn)行應(yīng)力雙折射探測。針對(duì)特定材料制作（氟化鈣）和特定形狀（非球面透鏡）的技術(shù)解決方案。

應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)，非球面透鏡應(yīng)力雙折射測量，應(yīng)力橢偏儀，應(yīng)力橢偏測量,殘余應(yīng)力測量

Hinds 公司的不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)（應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)）通過對(duì)光的調(diào)制解調(diào)可以測出待測光學(xué)元件中的雙折射大小和方向，這些數(shù)據(jù)同時(shí)也表示了應(yīng)力的大小和方向。Hinds 公司這套不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)的傾斜，多角度入射掃描技術(shù)可以保證對(duì)非球面不規(guī)則的光學(xué)元件（光刻機(jī)透鏡等）有著的掃描測量解決方案。

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